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      13311665350
      
        
        
      
            
            
      
                
                
                
            
              
            
            
      
                
                
      
            
      
        
      
                
        
      
    
      

      








      
	
    
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      等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）
      
            
      
            	產品簡介
                
      等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）是借助于放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜的，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。
      
            
      
            
      
            	
      
                	
      產品型號：
      
                    
      更新時間：2023-09-19
      
                    
      廠商性質：生產廠家
      
                    
      訪問量：6287
      
                    
      
                
      
            
      
            
      
            	產品咨詢
                13917898272
                
      
            
      
        
      
        
      
    
      
    
    
      
    	
      
        	
      
                
      
                    
      產品分類
      PRODUCT CLASSIFICATION
      
                    
      
                        
                        
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      真空管式氣氛爐具有先進的結構設計
      
                        
                        
      氣相沉積爐在技術上有什么特點？安裝要注意什么？
      
                        
                        
      單溫區管式爐在實際使用上具有哪些性能？
      
                        
                        
      等離子增強化學氣相沉積爐主要包含以下三個基本過程
      
                        
                    
      
                
      
            
      
            
        
      
        
        
        
      
        	
      
            	
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      　　一、等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）的應用：
      　　PECVD工藝中由于等離子體中高速運行的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成離子體，而等離子體化學活性很強，很容易反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點；
       
      　　二、產品特點：
      　　1、整機采用SUS304不銹鋼材質，流線型外觀，真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好。
      　　2、爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩，可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻。爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料。
       　　3、采用高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小。
      　　4、采用SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫“O"型圈緊密密封可獲得高真空，一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷。
      　　5、加熱元件采用康奈爾發熱絲，表面負荷高、經久耐用。設計溫度1200℃，升溫速率10℃/min。
      　　6、可選配多路質量流量計，數字顯示、氣體流量自動控制；內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥，可通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量。
      　　7、等離子射頻電源：大射頻功率達500W，輸出頻率13.56MHz±0.005%，輸入電源 208-240VAC，單相50/60Hz。
       
      　　三、等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）技術參數：

       
      型號
      HTF1200-2.5/20-2M-LV-PE
      HTF1200-5/20-4M-LV-PE
      HTF1200-6/40-2M-HV-PE
      HTF1200-8/40-4M-HV-PE
      設計溫度（℃）
      1200
      1200
      1200
      1200
      控溫精度（℃）
      ±1
      ±1
      ±1
      ±1
      加熱區直徑（mm）
      25
      50
      60
      80
      加熱區長度（mm）
      200
      200
      400
      400
      加熱管長度（mm）
      450
      450
      1000
      1000
      恒溫區長度（mm）
      80
      80
      150
      150
      額定電壓（V)
      220
      220
      220
      220
      額定功率(KVA)
      1.2
      1.2
      3
      3
      射頻電源功率（W)
      5~300
      5~300
      5~500
      5~500
      真空機組
      HTF-101
      HTF-101
      HTF-104
      HTF-104
      供氣系統
      HTF-2F
      HTF-4F
      HTF-2M
      HTF-4M


      
                
      
            
      
            
      
            
            
      
            	
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        聯系電話：
        
			
        
		
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        常用郵箱：
        
			
        
		
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        詳細地址：
        
			
        
		
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        補充說明：
        
			
        
		
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        驗證碼：
        
			
        
            	
        
                    
                    
                
        
                請輸入計算結果（填寫阿拉伯數字），如：三加四=7
            
        
		
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