產品中心
PRODUCTS CNTER等離子增強化學氣相沉積爐(PECVD系統)是借助于放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜的,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式。
相關文章
型號 | HTF1200-2.5/20-2M-LV-PE | HTF1200-5/20-4M-LV-PE | HTF1200-6/40-2M-HV-PE | HTF1200-8/40-4M-HV-PE |
設計溫度(℃) | 1200 | 1200 | 1200 | 1200 |
控溫精度(℃) | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 |
加熱區直徑(mm) | 25 | 50 | 60 | 80 |
加熱區長度(mm) | 200 | 200 | 400 | 400 |
加熱管長度(mm) | 450 | 450 | 1000 | 1000 |
恒溫區長度(mm) | 80 | 80 | 150 | 150 |
額定電壓(V) | 220 | 220 | 220 | 220 |
額定功率(KVA) | 1.2 | 1.2 | 3 | 3 |
射頻電源功率(W) | 5~300 | 5~300 | 5~500 | 5~500 |
真空機組 | HTF-101 | HTF-101 | HTF-104 | HTF-104 |
供氣系統 | HTF-2F | HTF-4F | HTF-2M | HTF-4M |